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Chromium Etchant

(TKCRE493),(TKCRESD)
T

FEATURES
Etching readily controlled with minimum undercutting provides excellent fine line definition.
Room-temperature operated.
Uniform etch rates and fine patterns.
Economical.

DESCRIPTION
Chromium Etchants (TKCRESD) basic formula :
Ceric Ammonium Nitrate solutions
Positive /Negative Photoresists에 최적의 호환성.
Chromium microelectronic circuit의 Photo Fabrication process에 대한 선택적 etch.
Positive/Negative Photoresist coating process를 통해, alumina와 다른 substrate위에 Thin Film에 정확한 electrode와 resistor pattern을 형성.
High Resolution pattern.
Microelectronics application의 plated layer Chromium에 최적의 선택.
전자/반도체급 고순도, Control Uniform etch, No Cyanide chemistry.
잘 환기된 장소에서 실온 사용.

CHROMIUM ETCHANTS

Model	TKCRE493	TKCRESD
Appearance	Clear ,colorless Liquid	Clear Orange Liquid
Etchant Type	Immersion(Dip) / Spray	Immersion(Dip) / Spray
Operating Temperature	25 - 40 ℃	25 - 40 ℃
Ventilation	Hood Recommended	Hood Recommended
Agitation	Agitation speed로 Etch rate 가속	Agitation speed로 Etch rate 가속
Etch Rate @ 25℃	14 Å/sec	40 Å/sec @40 ℃
Composition	Aqueous acid complex	Ceric Ammonium Nitrate compound
pH range	1 이하	1 이하
Density @ 25℃
Resist Compatibility	Negative & Positive	Negative & Positive
Rinse	Distilled, Deionized Water	Distilled, Deionized Water
Storage Temp.	직사광선 피하고 Room Temperature, Sealing, ventilated 공간에서 Open
Etch capacity	gm/gal	gm/gal

Etch 호환성(Compatibility)

	TKCRE493
Etch	Al	Co	Cr	Fe	GaAs	Mg , MgO	Steel	Ti	ZnO
No Etch(20:1 이상)선택성	Al2O3	Au	C, Cu	Nb	Ru, Si	SiO2	Si3N4	Ta/TaN	W
Slight(20:1이하)	Ni	Pd

	TKCRESD
Etch	Al	Co, C	Cr, Cu	GaAs	Mg, MgO	Ni	Ru	ZnO
No Etch(20:1 이상)선택성	Al2O3	Au	Nb	Pt	SiO2	Si3N4	Ti,	W	Mo	ITO
Slight(20:1이하) 선택성	Fe	Pd	steel

APPLICATION
Chromium Immersion Etchant (TKCRE493/TKCRESD)는 바로 사용할 수 있음. Microelectronic/Nanoelectronic surface etch layered Chromium chamber/bath 를 장착한 장비 cleaning. Microelectronic/Nanoelectronic surface etch layered Chromium Etch. Alumina,glass,substrate위에 thin film의 정밀한 electrode와 resistor pattern을 형성.
TKCRE493은 Cu, Au, Ni substrate위에 특히 전기 도금된 Cr을 제거.

ETCHING TANK / EQUIPMENT/ PACKAGE
Packing : HDPE, glass, epoxy-coated tanks. Heater : quartz, carbon , titanium (nickel or cobalt-steel). Packing Unit :Galon(3.78 L) , 20 Liter.

DISPOSAL OF SPENT ETCHANT
사용된 etchant(TKCRE493/TKCRESD)는 승인된 시약 특성별 분리된 폐수 수집용기에 폐기. 승인된 시약 특성별 분리된 폐수 수집용기에 폐기 . 하수구 무단 배출은 추천 않음. 배출은 유해화학물질 폐기에 관한 관련 법률에 따라 폐기.

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