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ITO Etchant

(TKITOESD)
T

FEATURES
Etching readily controlled with minimum undercutting provides excellent fine line definition.
Broad Compatible with positive and negative photoresists.
Uniform etch rates and fine patterns.
Economical.

DESCRIPTION
ITO Etchants (TKITOESD) basic formula :
ferric chloride solutions(proprietary wetting antifoam + chelating additives).
Tin Oxide/Indium Tin Oxide의 layer microelectronics applications 에 selective한 최적화 etchant.
Broad Positive/Negative Photoresists (KPR, DYNACHEM, AZ, RISTON, SCREEN RESISTS, etc)에 최적의 호환성.
ceramics, dielectrics, semiconductors, metal에 deposit된 thin film의 High Resolution pattern.
Ni , Cu, NiCr, Al에는 compatible하지 않음.
ITO microelectronic circuit의 Photo Fabrication process에 대한 선택적 etch.
Photoresist coating process를 통해, alumina 다른 substrate위에 Thin Film에 fine line electrode와 resistor pattern을 형성.
전자/반도체급 고순도, Control Uniform etch, No Cyanide chemistry. 잘 환기된 장소에서 실온 사용.

ITO Etchants

Model	TKITOESD
Appearance	Dark purple Liquid
Etchant Type	Immersion(Dip) / Spray
Operating Temperature	20 - 50 ℃
Ventilation	Hood Recommended
Agitation	Agitation speed로 Etch rate 가속
Etch Rate @ 25℃	15 - 25 Å/sec
Composition	Ferric Chloride complex
pH range	1 이하
Select Incompatible Materials	Al, Ni, Ti, Cu, Pd
Resist Compatibility	Negative & Positive
Rinse	Distilled, Deionized Water
Storage Temp.	직사광선 피하고 Room Temperature, Sealing, ventilated 공간에서 Open
Etch capacity	80 gm/Gal
Packing Tank	Polyethylene / Polypropylene

Etch 호환성(Compatibility)

	TKITOESD
Etch	Al	Cu	Co	Fe	GaAs	Ni	Pd	steel	ZnO
No Etch(20:1 이상)선택성	Al2O3	Au	C ,Nb	Mg, MgO	Pt,Ru	Si,	SiO2	Si3N4	W	Ta/TaN
Slight(20:1이하) 선택성	Cr	Ti

APPLICATION
ITO Immersion Etchant (TKITOESD)는 바로 사용할 수 있음. Microelectronic/Nanoelectronic surface etch layered Indium Tin Oxide camber/bath 를 장착한 장비 cleaning. Microelectronic/Nanoelectronic surface etch layered Tin Oxide/Indium Tin Oxide Etch. Ceramics,dielectrics,semiconductor,substrate위에 indium tin oxide thin film의 정밀한 electrode와 resistor pattern을 형성.
Sn이 [SnCl6] -2가 이온이 [In(H2O)6] +3가로 용해. ITO Etchant(TKITOESD)은 두께가 두께운 Thin film의 Etching시 적용 가능.

ETCHING TANK / EQUIPMENT/ PACKAGE
packing : HDPE, glass, epoxy-coated tanks. Heater : quartz, carbon , titanium (nickel or cobalt-steel). Packing Unit :Galon(3.78 L) , 20 Liter.

DISPOSAL OF SPENT ETCHANT
사용된 etchant(TKITOESD)는 승인된 시약 특성별 분리된 폐수 수집용기에 폐기. 사용된 etchant(TKITOESD)는 탄산칼슘(calcium carbonate)으로 중화시킨 후 물로 희석.
승인된 시약 특성별 분리된 폐수 수집용기에 폐기 . 하수구 무단 배출은 추천 않음. 배출은 유해화학물질 폐기에 관한 관련 법률에 따라 폐기.

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