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Nickel Etchant

(TKNESDI)
T

FEATURES
Etching readily controlled with minimum undercutting provides excellent fine line definition.
Compatible with positive and negative photoresists.
Uniform etch rates and fine patterns.
Economical.

DESCRIPTION
Nickel Etchants (TKNESDI) basic formula :
ferric chloride solutions (proprietary wetting antifoam + chelating additives) Photoresists (KPR, DYNACHEM, AZ, RISTON, SCREEN RESISTS, etc.) 에 최적의 호환성.
Copper,nickel, nickel-iron alloys ,iron,iron Oxide,stainless steel 의 printed circuit board 에 가장 최적화
Nickel microelectronic circuit의 Photo Fabrication process에 대한 선택적 etch.
Positive/Negative Photoresist coating process를 통해, alumina와 다른 substrate위에 Thin Film에 정확한 electrode와 resistor pattern을 형성.
전자/반도체급 고순도, High Resolution pattern. Control Uniform etch, No Cyanide chemistry.
잘 환기된 장소에서 실온 사용. Solder-plated resists 적용 시, 사용 할 수 없음.

NICKEL ETCHANTS

Model	TKNESDI
Appearance	Deep purple Liquid
Etchant Type	Immersion(Dip) / Spray
Operating Temperature	20 - 60 ℃
Ventilation	Hood Recommended
Agitation	Agitation speed로 Etch rate 가속
Etch Rate @ 40℃	4 mil/min
Composition	Ferric Chloride complex
pH range	1 이하
Shelf Life	1 year
Resist Compatibility	Negative & Positive
Rinse	Distilled, Deionized Water
Storage Temp.	직사광선 피하고 Room Temperature, Sealing, ventilated 공간에서 Open
Etch capacity gm/gal	18 oz/Gal
Packing Tank	Polyethylene/Polypropylene

Etch 호환성(Compatibility)

	TKNESDI
Etch	Al	Co	Ni	Cu	Fe	GaAs	Mg	MgO	ZnO	Pd	Stainless steel
No Etch(20:1 이상)선택성	Al2O3	Au	C,	Nb	Pt	Ru	Si	Si3N4	SiO2	Ta/TaN	W
Slight(20:1이하) 선택성	Ti	Cr

APPLICATION
Nickel Immersion Etchant (TKNESDI)는 바로 사용할 수 있음. Microelectronic/Nanoelectronic surface etch layered Nickel camber/bath 를 장착한 장비 cleaning. Microelectronic/Nanoelectronic surface etch layered Nickel Etch. Alumina,glass,substrate위에 thin film의 정밀한 electrode와 resistor pattern을 형성.
Graphene Process.

ETCHING TANK / EQUIPMENT/ PACKAGE
packing : HDPE, glass, epoxy-coated tanks. Heater : quartz, carbon , titanium (nickel or cobalt-steel). Packing Unit :Galon(3.78 L) , 20 Liter.

DISPOSAL OF SPENT ETCHANT
사용된 etchant(TKNESDI)는 승인된 시약 특성별 분리된 폐수 수집용기에 폐기. 사용된 etchant(TKNESDI)는 탄산칼슘(calcium carbonate)으로 중화시킨 후 물로 희석.
승인된 시약 특성별 분리된 폐수 수집용기에 폐기 . 하수구 무단 배출은 추천 않음. 배출은 유해화학물질 폐기에 관한 관련 법률에 따라 폐기.

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